nTopology社がORNL（オークリッジ国立研究所）と共同研究開発契約を締結
2020年 3月 4日
nTopology社 2020年3月3日
nTopology社は2020年3月3日、同社の「nTop Platform」製品用の新機能開発で、ORNL（オークリッジ国立研究所）とCRADA（共同研究開発契約）を締結したと発表した。同契約では、3Dプリントプロセスを選択するためのnTop Platform内の設計機能とプリント準備機能の強化に重点が置かれている。両者の協力の第1段階では、nTop PlatformとORNL独自のスライサーとを組み合わせた、BAAM（大面積積層造形）の設計とプリント準備の最適化用ツールキットの開発が予定されている。第2段階では、EBM（電子ビーム溶融）法による金属粒子の直接成長を実行するためのツールキットや、FDM（熱溶解積層）法向けのハニカム充填構造の構築および解析用ツールキットの作成が計画されている。