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有機ELディスプレイの真空蒸着プロセス中に発生するメタルマスクの皺発生の予測。メタルマスクにはディスプレイの1ピクセルに対応する小さな孔がたくさん空いているため、マルチスケール解析技術で等価物性値を用いた均質な膜に置換しました。